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      RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NE-RE08
      
            
        
                
      • 產(chǎn)品型號(hào)：NE-RE08
        • 
                
      • 性能特點(diǎn)：刻蝕速率快，各向異性好
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      • 產(chǎn)品用途：干法刻蝕
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      • 產(chǎn)品介紹
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      • 產(chǎn)品參數(shù)
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             反應(yīng)離子刻蝕(RIE)是集成電路制造工藝中刻蝕工藝的一種,它具有各向異性、刻蝕均勻性好、刻蝕線寬損失小等特點(diǎn)。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，結(jié)合了物理刻蝕和化學(xué)刻蝕的特點(diǎn)，使用等離子體中的離子和化學(xué)反應(yīng)共同作用于材料表面，可以實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝。
      

      
技術(shù)指標(biāo)：
      
RF功率：300W
      
晶片尺寸：最大8英寸
      
反應(yīng)氣體：CF4、CHF3、SF6、O2、Ar等
      
刻蝕材料：可用于硅及化合物（如SiN、SiO2、SiC等），有機(jī)物（如光刻膠、PMMA、ARC等）等材料。
      
均勻性：<±10%
      

      
反應(yīng)離子刻蝕的特點(diǎn)：
      
(1)刻蝕過程中物理刻蝕和化學(xué)刻蝕一同參與,具有各向異性的特點(diǎn)。
      
(2)氣壓較低,氣體的自由程大,離子被電場作用的距離長,因此離子的動(dòng)能增大,物理濺射作用和化學(xué)反應(yīng)都被增強(qiáng),刻蝕速率被極大提高。
      
(3)通過選用不同的氣體對不同的材料進(jìn)行刻蝕,比如選用SF6、CF4等氣體對硅、氮化硅、鎢等材料進(jìn)行刻蝕,CHF3對二氧化硅進(jìn)行刻蝕,以及O2對聚合物進(jìn)行刻蝕。
      

             
      
            
      
               

      
	
		
      
			
				工作臺(tái)尺寸
			
				Φ300mm（11.8inch）
		
      
		
      
			
				有效處理尺寸
			
				Φ280mm(loading up to 8" round substrate)
		
      
		
      
			
				冷卻方式
			
				水冷固定電極
		
      
		
      
			
				等離子電源
			
				13.56MHz/600W連續(xù)調(diào)節(jié)
      
				自動(dòng)阻抗匹配可連續(xù)長時(shí)間工作      		
		
      
		
      
			
				氣體流量控制
			
				0-500sccm
      
				 MFC氣體質(zhì)量流量計(jì)精確控制流量      		
		
      
		
      
			
				反應(yīng)氣體
			
				標(biāo)準(zhǔn)配置2路，最大可配置4路。
      
				O2、Ar、N2，CF4，Cl2等氣體      		
		
      
		
      
			
				刻蝕方式
			
				RIE
		
      
		
      
			
				真空泵
			
				30M3/H（干泵）
		
      
		
      
			
				真空測定系統(tǒng)
			
				1.0×105～1×10-1 Pa
		
      
		
      
			
				充氣系統(tǒng)
			
				N2+節(jié)流閥控制
		
      
		
      
			
				抽真空時(shí)間
			
				60s以內(nèi)
		
      
		
      
			
				破真空時(shí)間
			
				≤15s
		
      
		
      
			
				輸入氣壓檢測系統(tǒng)
			
				氣壓自動(dòng)報(bào)警
		
      
		
      
			
				電源
			
				AC220V
		
      
		
      
			
				控制系統(tǒng)
			
				PLC+人機(jī)交互觸摸屏
      
				       		
		
      
	      

      

      


            
      
        
      
    
      

 
      
      
        
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