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      微波等離子清洗機(jī)

      • 產(chǎn)品型號:NE-MW12
      • 性能特點(diǎn):清洗溫度低,無損傷清洗,無電極濺射污染
      • 產(chǎn)品用途:敏感電路,半導(dǎo)體元器件清洗
      • 產(chǎn)品介紹
      • 產(chǎn)品參數(shù)
      微波等離子清洗機(jī)由五部分組成:外殼框架系統(tǒng)、微波放電系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。該設(shè)備控制方式為觸摸屏+PLC,操作方式包括自動模式和手動模式,在自動模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理,可同時存儲50組不同的配方。設(shè)備設(shè)計有工作氣體耗盡報警、壓縮空氣壓力低于設(shè)定值報警、泵熱過載報警、反應(yīng)倉泄露率過大報警等安全功能。微波等離子清洗作為一種綠色無污染的高精密干法清洗方式,可以有效去除表面污染物,避免靜電損傷。

      微波等離子清洗機(jī)原理:


      微波等離子是由工作頻率為2.45GHz的微波激發(fā)工藝氣體放電,在真空腔內(nèi)壓力到達(dá)一定范圍時充入工藝氣體,當(dāng)腔內(nèi)壓力為動態(tài)平衡時,利用微波源振蕩產(chǎn)生的高頻交變電磁場將氧、氬、氫等工藝氣體電離,生成等離子體,活性等離子體對被清洗物進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用,使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì),經(jīng)過抽真空排出,而達(dá)到清洗目的。

      微波等離子清洗機(jī)特點(diǎn):


      微波等離子清洗與傳統(tǒng)濕法清洗相比,不需要使用大量的酸、堿、有機(jī)溶劑等,不會給環(huán)境帶來任何污染,有利于環(huán)保和人員安全,同時該清洗技術(shù)的均勻性、重復(fù)性和可控性非常好,具有三維處理能力,可以進(jìn)行方向選擇。
      微波等離子清洗機(jī)與低頻或射頻放電產(chǎn)生的等離子體相比,它的特點(diǎn)是沒有正負(fù)電極,自偏壓很小,不會產(chǎn)生放電污染,有效防止靜電損傷;等離子密度高,生產(chǎn)效率高;離子運(yùn)動沖擊小,不會產(chǎn)生UV(紫外線)輻射,尤其適用于一些敏感電路的制程清洗。

      微波等離子清洗機(jī)具有激發(fā)頻率高、自偏壓小、離子動能小、離子濃度高、化學(xué)反應(yīng)強(qiáng)等特點(diǎn),可以有效避免靜電損傷、實(shí)現(xiàn)均勻的三維清洗,與傳統(tǒng)等離子清洗(超聲或射頻)相比,微波等離子清洗可以產(chǎn)生具有優(yōu)良特性的等離子體,所以微波等離子清洗機(jī)在集成電路制程中,尤其是可靠性要求極高的軍用集成電路生產(chǎn)過程中發(fā)揮著舉足輕重的作用,集成電路封裝過程中,會產(chǎn)生各類污染物,包括氟、鎳、光刻膠、環(huán)氧樹脂和氧化物等,其存在會降低產(chǎn)品質(zhì)量。微波等離子清洗技術(shù)作為一種精密干法清洗技術(shù),可以有效去除這些污染物,改善材料表面性能,增加材料表面能量。

      產(chǎn)品型號 微波等離子清洗機(jī)NE-MW12
      外形尺寸 W850*H538*D600mm
      腔體內(nèi)部尺寸 W225*H225*D225mm
      頻率 微波2.45GHZ
      功率 50-500W可調(diào)
      氣路 標(biāo)配兩路
      控制方式 PLC+觸摸屏
      真空規(guī) Priani真空計
      電源 380V ,50/60Hz

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